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主營產(chǎn)品:X射線熒光光譜儀
產(chǎn)品系列
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輝光放電光譜儀

型 號GDA750/GDA550

產(chǎn)品時間2024-06-24

所屬分類輝光放電光譜儀

訪問量4097

產(chǎn)品描述:輝光放電光譜儀(GDA)于1968年*出現(xiàn),用于各種塊狀金屬和合金的光譜化學分析。這種分析方法不斷地發(fā)展,尤其擅長于表面和涂層分析。與傳統(tǒng)的激發(fā)技術相比,輝光放電技術的突出優(yōu)點是能夠表層分析樣品的表層。
產(chǎn)品概述

輝光放電光譜儀(GDA)于1968年*出現(xiàn),用于各種塊狀金屬和合金的光譜化學分析。這種分析方法不斷地發(fā)展,尤其擅長于表面和涂層分析。與傳統(tǒng)的激發(fā)技術相比,輝光放電技術的突出優(yōu)點是能夠表層分析樣品的表層。

 

適用于質(zhì)量控制和材料研究

在金屬分析領域中,輝光放電分析是濃度分析和表面分析理想的手段。

表面處理工藝過程,如表面滲碳硬化或滲碳熱處理等,都可以通過分析被處理材料的表面和近表層區(qū)域實現(xiàn)質(zhì)量控制。采用濃度分布分析功能可以精確地測量涂(鍍)層厚度及化學成分。

 

對于傳統(tǒng)的分析方法不能解決的材料分析問題,輝光放電光譜技術可以作為優(yōu)先選用的方法。


采用可選的射頻光源(GDA750輝光放電光譜儀)可以分析非導體材料和涂層,如玻璃,陶瓷,釉質(zhì)和油漆涂層。

 

GDA750可以配備60個以上的分析通道,并且能充分地滿足高分辨率和高精度的分析要求。涂(鍍)層的深度可測量至200um表面分析和獲得的分辨率達1個原子層。分析軟件具有強大功能并且靈活易用;化學成分可以與其他特性,如被分析區(qū)域中的密度和質(zhì)量分布同時測定。


通過比較涂(鍍)層工藝過程(CVD,PVD)前后的表面特性,確保生產(chǎn)工藝過程佳化和大程度地避免廢品浪費。


GDA750也可用于塊狀樣品的分析(如金屬合金的化學成分),為復雜基體材料的分析提供具有良好線性的工作曲線。

 

主要特點:

1.涂(鍍)層材料和均相材料化學成分的分析,痕量和微量合金元素的檢測和測量

2.濃度分布測定和表層測量數(shù)據(jù)的定性/定量評價

3.測定被分析表面層內(nèi)部的相/相比

4.軟件基于Windows 2000環(huán)境,日常分析功能采用易用的軟件界面,使用戶能很快地熟悉儀器的使用

5.具有許多適于用戶的軟件功能選項,如顯示輸出、數(shù)據(jù)傳輸和數(shù)據(jù)格式

 

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